Das Rasterkraftmikroskop (AFM) ermöglicht eine hochauflösende Oberflächenanalyse auf Nanoebene. Mit seiner präzisen XYZ-Scanreichweite von 100×100×10 µm und einer Rauschunterdrückung unter 15 pm RMS liefert das NTEGRA II AFM exakte Messungen selbst für anspruchsvollste Anwendungen.
Dank der geschlossenen Regelkreissensoren mit geringem Rauschen (XY < 0,2 nm, Z < 0,04 nm) können selbst kleinste topografische und mechanische Eigenschaften untersucht werden. Zudem reduziert die niedrige thermische Drift (< 0,02 nm/min) Messabweichungen, was Langzeitstabilität garantiert.
Vielseitige Messmodi für unterschiedliche Anforderungen
Ob in Forschung oder Industrie – das AFM NTEGRA II bietet zahlreiche Messmodi, die sich automatisiert anpassen lassen. Dazu gehören Piezoresponse-Messungen, elektromechanische Analysen sowie Scanning Ion Conductance Microscopy (SICM). Zusätzlich ist eine Integration mit inversen Lichtmikroskopen (Nikon, Olympus, Zeiss, Leica) möglich.
Für noch detailliertere Materialanalysen lässt sich das AFM mit konfokalen Raman-Modulen koppeln, wodurch gleichzeitige AFM-Raman-Messungen und TERS-Analysen realisiert werden können. Die Kombination mit Nano-IR-Mikroskopie erweitert zudem die Möglichkeiten der chemischen Oberflächenanalyse.
Einfache Bedienung durch intelligente Software
Die Bedienung des NTEGRA II Rasterkraftmikroskops wird durch automatisierte Softwarekonfigurationen und die ScanTTM-Technologie erheblich vereinfacht. Diese intelligente Funktion ermittelt automatisch die optimalen Scanparameter und erhöht damit die Effizienz der Messungen.
Das Rasterkraftmikroskop bietet zahlreiche technische Highlights, die präzise Messungen ermöglichen. So können Proben mit einem Durchmesser von bis zu 100 mm analysiert werden, während die optische Auflösung standardmäßig 3 µm beträgt und optional auf 1 µm erweitert werden kann. Zudem erlaubt die hohe Scan-Geschwindigkeit von bis zu 10 Hz mit Standardsonden und 25 Hz mit Kurzsonden eine schnelle und effiziente Oberflächenanalyse. Darüber hinaus sorgen externe Magnetfeldgeneratoren für eine Feldstärke von bis zu 2000 Gauss in-plane und 500 Gauss out-of-plane, was vielfältige experimentelle Anwendungen unterstützt. Außerdem ist das AFM mit Elektrochemiezellen kompatibel, sodass sich verschiedene Katalysesysteme analysieren lassen. Auch Heizstufen von bis zu 300°C ermöglichen Untersuchungen unter thermischen Bedingungen. Schließlich erlaubt das Mikroskop Messungen unter Niedrigvakuum bis 10⁻³ Torr, wodurch noch präzisere Ergebnisse erzielt werden können.
Perfekte Lösung für hochpräzise Analysen
Das Rasterkraftmikroskop NTEGRA II überzeugt durch seine hochpräzise Messtechnik, Vielseitigkeit und intuitive Bedienung. Es eignet sich ideal für Nanotechnologie, Materialforschung und biophysikalische Studien. Durch die umfangreiche Modulvielfalt lassen sich Messungen optimal an spezifische Forschungsanforderungen anpassen.
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