MSV200 – Präzises Laser-Scribing für Photovoltaik und großflächige Substrate
Das MSV200 von msolv ist eine skalierbare Laserbearbeitungsplattform für die Entwicklung und Produktion moderner Photovoltaikmodule. Das System verbindet einen großen Arbeitsbereich mit einer hochstabilen mechanischen Konstruktion und eignet sich sowohl für die Entwicklung neuer Prozesse als auch für den Einsatz in größeren Produktionsumgebungen.
Mit einem Arbeitsbereich von 650 × 550 mm unterstützt das MSV200 unterschiedliche Panelgrößen und Produktionsvolumina. Die massive Granitbasis sorgt für die mechanische Stabilität, die insbesondere beim hochpräzisen Laser-Scribing großflächiger Substrate erforderlich ist.
Präzise Layer-to-Layer-Ausrichtung
Für mehrstufige Strukturierungsprozesse kombiniert das MSV200 ein Machine-Vision-System mit proprietären Scanning-Verfahren von msolv. Dadurch kann die Position der einzelnen Schichten in Echtzeit erfasst und die Lage der Laserspuren automatisch korrigiert werden.
Diese präzise Ausrichtung entlang der langen und kurzen Panelkanten ist insbesondere für die Herstellung zuverlässiger Photovoltaik-Zellstrukturen und Junctions relevant und unterstützt eine hohe Prozesseffizienz und Reproduzierbarkeit.
Skalierbare Plattform für Entwicklung und Produktion
Das MSV200 ist darauf ausgelegt, mit steigenden Produktionsanforderungen mitzuwachsen. Die Plattform kann sowohl für die Optimierung und Entwicklung neuer Prozesse als auch für größere Produktionsvolumina eingesetzt werden. Optional stehen Lösungen für das automatisierte Panel-Handling zur Verfügung.
Damit lässt sich ein entwickelter Prozess auf derselben Anlagenplattform schrittweise in Richtung Serienproduktion skalieren.
Konfigurierbar für unterschiedliche Prozesse
Obwohl das MSV200 vor allem für Laser-Scribing optimiert wurde, kann die Anlage zusätzlich mit grundlegender Inkjet-Funktionalität ausgestattet werden. Damit lassen sich beispielsweise nanopartikuläre Tinten oder dielektrische Materialien aufbringen.
Diese Kombination ermöglicht ergänzende Prozessschritte innerhalb hybrider Fertigungsumgebungen und erlaubt eine anwendungsspezifische Konfiguration der Anlage.
Typische Anwendungen
- Laser-Scribing von Photovoltaikmodulen
- Entwicklung neuer Dünnschicht-PV-Prozesse
- Präzise Strukturierung großflächiger Substrate
- Layer-to-Layer-ausgerichtete Laserprozesse
- Forschung und Prozessentwicklung
- Skalierung von Entwicklungsprozessen in die Produktion
- Hybride Laser- und Inkjet-Prozesse
- Inkjet-Auftrag nanopartikulärer oder dielektrischer Materialien
MSV200 von msolv
Das MSV200 verbindet einen großen Arbeitsbereich, eine hochstabile Granitkonstruktion und präzise automatische Ausrichtung mit einer skalierbaren Anlagenplattform. Dadurch eignet sich das System insbesondere für Photovoltaik-Anwendungen, bei denen hohe Positioniergenauigkeit und reproduzierbares Laser-Scribing über größere Flächen erforderlich sind.
Soliton unterstützt Sie bei der Konfiguration des MSV200 und der Auswahl einer geeigneten Lösung für Ihren Laser-Scribing- oder Photovoltaikprozess.
